Wassergekühlte UV-Laserquelle zum Bohren von Siliziumwafern
Im Bereich der Halbleiterfertigung gibt es zahlreiche Feinheiten, wobei das Bohren von Siliziumwafern im Mittelpunkt steht. Mit fortschreitender Technologie steigt die Nachfrage nach präziseren und effizienteren Bohrmethoden, was zur Entstehung einer transformativen Lösung führt: der wassergekühlten UV-Laserquelle. Diese Spitzentechnologie hat die Branche revolutioniert, bietet beispiellose Leistung, Genauigkeit und Zuverlässigkeit und hebt die Kunst des Siliziumwaferbohrens auf ein neues Niveau.